电子半导体行业方案
超纯水与工艺流体系统 · 从制水、输配到监测的全链路方案
01
超纯水水质分级
不同制程对水质要求差异极大，先对号入座，再谈配置。
一般工业纯水电阻率 ≥1 MΩ·cm，适用于冷却、洗涤等非关键工序。
高纯水电阻率 ≥10 MΩ·cm，适用于封测清洗、一般湿法工序。
UPW 超纯水电阻率 18.2 MΩ·cm，TOC <1 ppb，颗粒 <0.1 μm，适用于晶圆清洗、光刻等关键制程。
02
UPW 系统五段架构
预处理 → 一级除盐 → 二级抛光 → 输配循环 → 回收，五段缺一不可。
1
预处理单元
多介质过滤 + 活性炭 + 软化，拦截余氯与胶体，保护后端膜元件。
2
一级除盐（RO）
两级反渗透脱除 99% 以上离子与有机物，产水电导率 <10 μS/cm。
3
二级抛光（EDI+抛光混床）
EDI 连续电去离子叠加抛光混床，电阻率逼近 18.2 MΩ·cm 理论值。
4
输配循环与杀菌
全循环管路 + UV 185nm 破除 TOC，管路 316L BA 级内壁，杜绝二次污染。
5
废水回收单元
RO 浓水与漂洗水分类回收，回用率最高可达 75%，降低整体水耗。
03
关键指标在线监测能力
所有仪表数据可接入 FAB 的 FMCS 厂务监控系统。
| 指标 | 监测下限 | 推荐点位 |
|---|
| 电阻率 | 18.20 MΩ·cm | RO 出口 / 抛光出口 / 用点 |
| TOC | 0.05 ppb | 抛光出口 / 回水端 |
| 溶解氧 | 1 ppb | 用点前 |
| 颗粒 (≥0.05μm) | LPD 计数 | 终端过滤器后 |
| 细菌 | <1 CFU/100mL | 定期取样送检 |
04
项目交付内容
从设计文件到竣工验收的完整交付边界。
工艺设计包
P&ID 图、水质平衡计算书、设备布置图，通过业主评审后下发施工。
成套设备供货
撬块化出厂集成，现场只做水电气接驳，缩短洁净区施工周期。
洁净区施工管理
施工人员洁净室作业培训备案，焊接采用自动轨迹焊并留影像记录。
水质验收报告
第三方检测机构出具 UPW 全指标验收报告，通过后移交运行。
FMCS 数据对接
全部在线仪表接入厂务监控系统，异常自动推送值班终端。
耗材年度框架
膜元件、抛光树脂、UV 灯管年度框架协议，锁价并保供。
05
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